반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[식각공정] 훈련 9 : Pulsed Etch, Cryogenic Etch - 차세대 에치공정 기술 [1/2]
딴딴 후보생 여러분들 Etch 공정의 종착역까지 얼마 남지 않았습니다. 오늘은 Loading Effect를 개선하기 위한 Etch Tech와 차세대 Etch 기술에 대해서 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1]. Pulsed Plasma Etch 기술에 대해서 설명해주세요. 최근 Pulsed Plasma 기술이 Etch 공정에서 주목받고 있습니다. Pulsed Plasma는 Plasma를 형성하는 Source에 가해주는 Power를 On/Off, 이온을 가속시키는 Bias Power를 On/Off 함으로써 Source와 Bias Power를 이용하여 싱크 Pulse를 가해줄 수 있습니다. Pulsed Plasma가 주목받는 이유는 Pattern Size가 넓은 영역도 있고 집적도가 너무 높아 좁고 복잡한 ..
2022. 4. 13. 19:05
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