반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[이온주입 공정] 훈련 4 : 이온주입 공정의 변수, Ion Channeling, Shadowing Effect
이온주입 공정에서 정확한 Depth에 정확한 양의 Dopant를 주입하기 위해서는 어떤 제어가 필요한지, 주입된 이온의 분포가 어떤지에 대해서 다루어보도록 하겠습니다. [설명 1] 이온주입 공정에서의 변수에 대해서 설명하세요. 이온주입 공정에서 엔지니어가 제어할 수 있는 변수는 크게 5가지로 설명드릴 수 있습니다. 첫 번째는 바로 Dopant Type입니다. 이온주입으로 불순물을 도핑할 때, p-type 반도체의 경우 Boron, n-type의 경우는 P, As를 선택할 수 있습니다. 그 중에서도 이온 질량을 계산하여 Dopant Source를 결정할 수 있습니다. 두 번째는 단위 면적당 단위 시간당 Doping 정도인 Dose 량입니다. 단위면적당 Wafer에 주입되는 이온의 개수를 의미하며 이온 수로..
2022. 4. 28. 20:22
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