반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[딴딴's 속성과외] 포토공정 #04 : 포토레지스트, Photoresist #2편 -심화- "Resist의 구성요소"
오늘은 Photoresist의 구성요소에 대해서 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1] Novolac-based Resist에 대해서 설명해주시겠습니까 Novolac Resist는 G-line, I-line과 같이 Lamp 광원을 이용한 포토공정에 대표적인 감광제입니다. 특히, 8인치 레거시 공정에서 I-line의 광원을 주로 사용하는데, I-line의 PR은 Novolac Resist가 대표적입니다. Novolac Resist는 '용해억제형' PR로서 패턴을 형성하는 Novolac Resin과 빛을 받아 반응하는 Photo-active Compound 그리고 Solvent로 구성되어 있습니다. [꼬리 1-1] Novolac-based Resist 감광 메커니즘에 대해서 간략하게 설명해주세요. Novola..
2023. 11. 28. 00:18
최근댓글