반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[포토공정] 훈련 3 : "Illumination mode, OPC, PSM 기술"
빛이 들어오게 되면서 마스크 패턴들이 웨이퍼에 잘 도달하게 만드는 것이 리소그래피 기술 중에 대부분을 차지합니다. Input layer (설계 마스크), Illumination mode (빛의 경로) [질문 1]. 이미지 패턴이 웨이퍼에 이미징 되기 위한 공식에 대해서 설명하세요. Keyword : [Pitch, NA, 회절각, off-axis illumination mode] 'sinθ = λ/P', 이미지 패턴이 웨이퍼에 이미징 되기 위해서는 마스크를 만나 회절된 빛의 회절각 Sinθ가 렌즈의 크기 NA보다 작아야 웨이퍼에 이미징 될 수 있습니다. 수직으로 웨이퍼에 들어오는 빛을 0차광, 회절된 빛을 1차, -1차광이라 했을 때, 회절광의 회절각이 NA보다 작아야 렌즈 안으로 빛이 들어오게 되고 웨이..
2022. 1. 7. 00:24
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