반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[식각공정] 훈련 4 : "Reactive Ion Etching, RIE 공정에 대해서 설명하세요"
오늘은 Plasma etching인 Reactive Ion Etch, RIE 공정 메커니즘에 대해서 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1]. Reactive Ion Etching, RIE 공정에 대해서 설명해주세요. RIE는 Reactive Ion Etching으로 High plasma etching과 ion milling 두 에칭 공정의 장점을 한 데 모은 것이라고 생각할 수 있습니다. ion assisted etch라고 부르기도 합니다. RIE 공정은 물리화학적 방법을 사용한 식각방법으로, 화학적 식각을 보조하기 위해 물리적 방법을 활용하거나, 화학적 식각에 관여하는 etchant 반응물질을 생성하기 위해 물리적 방법이 사용됩니다. Self bias effect에 의해 cathode sheath가 형성..
2022. 4. 11. 10:23
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