반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[증착공정] 훈련 5 : "Evolution of Chemical Vapor Deposition, CVD"
이번 장에서는 증착공정의 기술발전 history에 대해서 간략하게 교육하는 시간을 가져보겠습니다. 각 공정마다 어떤 이슈가 발생했고 상응하는 솔루션이 무엇인지 논리를 갖추는 것이 중요합니다. "APCVD는 틀렸어! LPCVD로 가즈아!" APCVD는 CVD 공정 초기 상태로 상압에서 열에너지로 박막을 증착합니다. 상압에서 진행하다 보니, 반응소스의 전달속도가 표면 반응속도보다 느립니다. 그래서 주입된 반응가스의 확산속도가 전체 반응속도를 지배합니다. 그래서 반응가스를 주입하는 족족 반응이 일어나기 때문에 높은 Throughput을 가지는 장점이 있습니다. 하지만, 상압에서 공정을 진행하다 보니 particle에 대한 오염에 매우 취약합니다. 그리고 Mean Free Path, MFP가 짧아 Step co..
2022. 2. 10. 17:20
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