[딴딴's 속성과외] 포토공정 #08 : Advanced Lithography & Patterning 경쟁 "#NIL, #DSA, #High-N

[질문 1] 차세대 패터닝 기술이 대해서 설명해주시겠습니까. 차세대 패터닝기술은 단연 EUV가 독보적이라고 할 수 있습니다. 하지만 최근 일본 캐논이 출시한 NIL (Nano Imprint Lithography system)에 대한 관심이 뜨겁습니다. 바로 EUV 노광설비 생산을 독점하고 있던 ASML 시장을 깰 수 있다는 전망 때문입니다. 캐논 社의 장비는 기존 DUV, EUV와 달리 Wafer 위에 바로 전사하는 형태로 미세 패턴을 구현합니다. 현재 캐논이 발표한 NIL 장비를 통해 5nm 공정 수준의 반도체 제조가 가능하며, 향후 2nm 구현의 가능성을 발표했습니다. [꼬리 1-1] NIL 패터닝 기술이 기존 공정과 어떤 차이가 있는 것이죠. 기존의 노광 공정은 빛을 이용하여 Wafer 상에 회로패..