Shmoo Plot은 수율을 관리하는 데 있어서 Chip 동작과 관련해 반드시 평가해야 할 Data라고 할 수 있습니다. 저도 공부하는 과정이다 보니 설명이 미흡한 점 양해 부탁드리겠습니다! 꾸벅 :( Understanding Shmoo Plots and Various Terminology of Testers 테스트의 기본은 칩에 입력으로 적용한 Binary 응답이 출력에서 비교된 값과 일치하는지 확인하는 것입니다. 즉, 입력을 주고 출력에 대해서 응답이 일치하면 회로가 양호한 것으로 평가합니다. 칩의 품질은 얼마나 철저하게 Test를 진행했는지에 따라 결정됩니다. 칩의 제조는 여러 유형의 테스트가 존재합니다. 생산의 경우 Wafer sort, Probe Test 등이 있습니다. 해당 Test는 회사 이..
반도체 Chip을 제조하는 회사의 이윤과 손실에 큰 영향을 미치는 것은 수율이라고 말씀드렸습니다. 반도체를 얼마나 잘 만드는지에 대한 지표는 수율로 나타낼 수 있으며, 모든 엔지니어들은 수율을 개선시키는데 총력을 기울여야 합니다. [질문 1] 수율 개선을 위한 상관성 분석에 대해서 설명하세요. 상관성 분석은 시각적으로 두 변수간의 관계가 어떤지 파악하기 위한 방법입니다. 반도체 Chip을 제조하는 과정에서는 Target 조건을 검증하고 양산에 이르기까지 수많은 Test 과정을 거칩니다. 특히 개별 Wafer에 대한 PCM Data, Probe Test를 통해 얻은 수율 Data에 대해서 상관성을 분석하고 수율을 개선하기 위해 조정하거나 변경해야 할 공정을 선정할 수 있습니다. 아래 데이터는 제가 임의로 ..
FAB 공정은 여러분들도 모두 아시다시피 설계한 회로를 Wafer 상에 Chip으로 제작하기 위한 모든 공정이 포함된 과정을 의미합니다! Wafer가 FAB-out 되기 까지 수많은 공정들이 진행되면서 공정 과정에서 여러 평가를 통해 IC의 완성도를 높여갑니다. 오늘은 그 중 In-line Monitoring에 대해서 다루겠습니다. [질문 1] 반도체 제품의 제작 프로세스에 대해서 간단하게 설명해주세요. 반도체 Chip 제조의 핵심 뼈대인 Si Wafer가 준비가 되면, 설계팀에서 회로를 설계합니다. 설계된 회로의 레이아웃을 기반으로 Mask를 제작하고 Mask가 FAB에 입고되면 제작된 Mask를 이용하여 여러 단위공정을 반복적으로 거치면서 Wafer 상에 설계한 회로의 Chip을 구현합니다. Wafe..
X-ray Diffracion, XRD 측정은 박막이나 반도체 소재를 연구하신 분이라면 누구나 측정 및 분석해봤을 것이라 생각합니다. 간단하게 원리와 분석에 대해서 설명드리는 시간 갖겠습니다. [질문 1]. X-ray Diffraction, XRD에 대해서 설명하세요. X-ray Diffraction, XRD는 고에너지의 X선을 입사하여 물질의 분자 및 결정구조를 파악하기 위해 가장 널리 사용되는 분광분석 기술입니다. 박막은 미세한 배열로 주기적으로 반복되는 결정구조를 가지고 있습니다. 결정 구조의 따라 박막 소재의 특성, 열전도성, 자화와 같은 재료의 화학적 물리적 특성을 분석할 수 있는 기법입니다. [꼬리 1-1]. X-ray Diffraction, XRD 측정에는 어떤 원리가 적용되는 것이죠. X선..
[질문 1]. NBTI, PBTI, HCI에 대해서 설명하세요. Keyword : [NBTI, PBTI, HCI, 열화, 신뢰, stress] NBTI는 Negative Bias Thermal Instability의 약어로 게이트에 Negative bias를 인가했을 때, 소자가 on 상태가 되는 PMOSFET의 열화현상을 말합니다. PBTI는 반대로 Positive bias를 인가했을 때, NMOSFET의 열화현상을 의미하고 HCI는 Hot Carrier Injection으로 소자 dimension이 작아짐에 따라 강해진 전계에 의해 가속화된 캐리어에 의한 열화 현상입니다. 보통 열화현상은 물리적 현상에 의해서 원하는 design 공정, 의도된 performance가 나오지 않고 degradation ..
소자의 커페시턴스를 측정하는 방법입니다. 특히 커패시턴스 값과 소자의 기본적인 Info를 통해 유전율을 구할 수도 있습니다. LCR미터는 임피던스 (Inductance), 커패시턴스 (Capacitance), 레즈스트 (Resistance)의 관계를 측정할 수 있어 LCR 미터라고 명명합니다. 문 1]. LCR 미터 측정은 언제 사용하죠. Keyword : [LCR미터, C-V곡선, HKMG, 산화막, Oxide capacitance] 최근 반도체 소자 미세화 트랜드에 따라서 HKMG (High-k Metal Gate) 공정 기술이 도입되었습니다. 소자의 누설전류를 억제하기 위해서는 산화막의 두께를 줄이거나 유전율을 높은 high-k 물질을 도입함으로써 oxide capacitance를 향상시켜 게이트 ..
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