[포토공정] 훈련 7 : "Photoresist technology"

EUV 공정의 도입으로 High sensistivity, High speed Photoresist 기술이 요구되고 있습니다. [질문 1]. Deep UV photoresist에 대해서 설명해주세요. Keyword : [화학증폭형, CAR, Polymer resin, Photo Acid Generator, Photo Active Compound] 광원의 빛은 파장이 짧아짐에 따라 빛의 세기 Intensity는 줄어들게 되었습니다. 따라서 낮은 빛의 Intensity에도 패턴을 정상적으로 형성하기 위해 화학증폭형 Photoresist인 CAR이 개발되었습니다. CAR은 Polymer resin과 Photo Acid Generator (PAG), 그리고 Solvent로 구성되어 있으며 노광시 빛을 받은 PAG..