반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[증착공정] 훈련 17 : "전극면적에 따른 자기바이어스 효과, 完"
오늘 RF Plasma 마지막 교육을 시작하겠습니다. DC Plasma와 달리 RF Plasma는 전극면적이 매우 중요하다고 했습니다. 오늘 마무리 교육에서 심도있게 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1]. Sputtering 공정에서 sheath의 역할이 중요한 이유에 대해서 설명하세요. [복습] Sheath 영역은 전자와 이온의 속도차이로 인해 음극 부근에 양이온이 축적되면서 공간전하가 형성되고 그로 인해 potential drop이 발생하면서 sheath 영역이 형성됩니다. sheath 영역의 전위차로 인해 이온이 가속되고 음극과 충돌하면서 2차전자를 발생시켜 방전을 지속시킬 수 있습니다. 또한 이온은 음극에 로딩된 source target을 sputtering 하면서 양극에 위치한 기판에 박막을 형..
2022. 2. 28. 18:06
최근댓글