[이온주입 공정] 훈련 6 : 격자 손상 & 결함 & Annealing [1/2]

Ion Implant 공정은 가속된 양이온이 격자와 충돌되면서 격자가 손상됩니다. 손상된 격자를 Curing하고, 주입된 이온을 Activation 시키기 위해서는 후속공정인 Annealing이 필수적입니다. 여러 Type의 Annealing 기술이 개발됐는데, 미세 트랜드에 따라 어떤 Annealing 기술이 적용되고 채택되었는지 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1] Ion Implant Damage 대해서 설명하세요. 에너지를 가진 이온들이 규칙적인 원자핵들과의 충돌, 전자와의 상호작용에 의해 정지하면서 격자 내부에 분포합니다. 이때, 원자핵 충돌에 의해 결정 격자 위치에서 벗어나 손상이 발생하는 '격자손상'(Lattice Damage), '격자 혼란(Lattice Disorder)'가 발생합니다. ..