반도체사관학교 훈련과정/반도체 물리 및 소재
[반도체 소재] "Si3N4, SiON grown on LPCVD & PECVD"
Silicon Nitride 역시 반도체 산업에서 많이 사용되는 박막 소재입니다. Silicon nitride의 물성과 소재 그리고 각각의 공정을 통해 성장했을 때 특징에 대해서 다루어보도록 하겠습니다. ■ Silicon Nitride, Si3N4 ■ Si3N4 특징 ① Weight density : 2.9~3.1g/cm^3 vs. (SiO2 = 2.2g/cm^3) ② Index of refraction : 2.05 vs. (SiO2 = 1.46) ③ Dielectric constant : 6~7 vs. (3.6) ④ Energy bandgap : 5.1eV vs. (SiO2 = ~9.1eV) ⑤ Thermal expansion coefficient : 4E-6/K (Si 2.6E-6/K) ⑥ Nitri..
2022. 2. 10. 22:36
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