[반도체 소재] "SiO2 grown on LPCVD & PECVD"

이번 장에서는 각각의 공정을 통해 얻은 박막이나 소재의 특성에 대해서 알아보겠습니다. 박막의 용도나 공정 Type에 따라 같은 박막이더라도 공정조건이 다르고 특성 또한 다릅니다.■ Silicon Dioxide, SiO2■ SiO2 특징 ① Crystal structure : Armorphous 구조 ② Weight density : 2.20g/cm^3 ③ Molecular density : 2.3×10^22 molecules/cm^3 vs. (Si : 5×10^22atoms/cm^3) ④ Excellent Electrical Insulator : Resistivity > 1×10^20ohm/cm ⑤ Energy bandgap : ~9.1eV ⑥ High breakdown electric field : >..