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Plasma 기출 및 예상질문 (PT면접)
- Q1. Plasma 주제를 선택하셨네요. Plasma에 관해서 간략하게 정의해주세요.
- Q2. Plasma를 구성 입자들의 집합체라고 하셨는데, 그 구성입자들의 특징에 대해서 설명해주세요.
- Q3. Plasma의 생성 Mechanism에 대해서 설명해주세요.
- Q4. 전공이 물리학이시니, 파센 법칙(Paschen's Law)과 Plasma 관계를 설명해주세요.
- Q5. 판서를 활용하셔도 좋으니, 파센 커브를 그려보시고 그래프를 해석해주세요.
- Q6. 이온화 에너지 이상의 크기가 전달되어야만 Plasma가 발생한다는 말씀인데, 그럼 이온화 에너지 이하의 에너지가 인가되면 내부에서는 무슨 일이 벌어지나요?
- Q7. Plasma 생성 메커니즘에 대해서 잘 들었습니다. 그럼 반대로, Plasma 소멸 메커니즘에 대해서도 설명해주실 수 있을까요.
- Q8. 그럼 Plasma를 유지하거나 Plasma Density를 높이기 위한 방법은 무엇일까요.
- Q9. Plasma에 대해서 준비를 많이 하셨군요. 엔지니어 관점에서 Plasma의 특성을 이야기해주실 수 있나요.
(솔직히 이 질문은 무슨 질문인지 이해가 안 되지만, 나름대로 답변해보았음) - Q10. DC Plasma와 RF Plasma의 차이에 대해서 간략하게 설명해주세요.
- Q11. CCP type 과 ICP type Plasma Source에 대해서 설명해주세요.
- Q12. CCP와 ICP가 각각 무엇을 의미하고 있는지 알고는 계신가요.
- Q13. CCP type Plasma Source를 사용했을 때, 장단점과 응용에 대해서 이야기해주세요.
- Q14. ICP type Plasma Source를 사용했을 때, 장단점과 응용에 대해서 이야기해주세요.
- Q15. Source type에 따라 Plasma 내 입자들의 구성 차이에 대해서도 알고 있나요.
- Q16. CCP, ICP type source 외에도 알고 있는 Plasma source type이 있을까요.
- Q17. Plasma의 Potential 분포를 그림으로 그리고, Sheath 영역을 이용하여 Plasma의 생성 메커니즘을 설명해주세요.
- Q18. 그림 그리신 이미지는 Anode 쪽에도 Potential Drop이 있는데, Anode 쪽에도 Sheath 영역이 생기는 것인가요.
- Q19. DC Plasma 생성 시, 부도체 Target 사용이 어려운 이유는 무엇이죠.
- Q20. RF Plasma에서 글로우 방전을 일으킬 수 있는 원리에 대해서 설명하세요.
- Q21. RF Plasma에서 Plasma 생성 및 제어를 위한 변수에 대해서 설명하세요.
- Q22. 자기바이어스 효과와 전극 면적의 관계를 설명해주세요.
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