반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[딴사관 정주행 프로젝트] 반도체 공정 -"에치공정, 기초+심화 편"
Chap 1. 식각공정 : 용어정리Q1. Etch Bias 설명하세요.Q2. 식각 공정 시 발생할 수 있는 Over Etch와 Under cut에 대해서 설명해주세요.Q3. Etch rate에 대해서 설명해주세요.Q4. Selectivity에 대해서 설명해주시죠.Q5. Etch Uniformity에 대해서 설명해주세요.Q6. Aspect Ratio에 대해서 설명해주세요.Q7. Loading Effect에 대해서 설명해주세요.Q8. 미세화에 따라 지향하고 있는 Etch Profile에 대해서 간략하게 설명해주세요.Q9. 에치공정에서 중요한 End Point Detection (EPD)에 대해서 설명해주세요. [식각공정] 훈련 1 : "Etching 공정, 용어정리"초미세 공정이 도입됨에 따라 작은 doma..
2024. 11. 26. 22:59
최근댓글