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Chap 1. 세정공정 기초

  • Q1. 세정공정을 희망하시는군요. 세정 공정의 목적과 세정공정 엔지니어의 역할에 대해서 설명해주세요.
  • Q2. 반도체 공정 상에서 발생할 수 있는 오염원에 대해서 알고 있는 것이 있다면 말씀해주세요.
  • Q3. 여러 오염원들 중에서 본인이 생각하는 가장 Critical한 오염원이 무엇이라고 생각하시나요.
  • Q4. 오염원에 따른 이슈에 대해서 설명해주세요!
  • Q5. 세정 공정의 구분에 대해서 설명해주세요.
  • Q6. 습식 세정과 건식 세정 중 무엇이 더 미세공정에 적합하다고 생각하시나요.
  • Q7. RCA 세정에 대해서 간략하게 설명해주세요.
  • Q8. 질화막이 제거되는 Chemistry를 설명해주시겠어요.
  • Q9. Scrubber에 대해서 설명해주세요.
  • Q10. Ozone Cleaning에 대해서 설명해주세요.
 

[딴딴's 속성과외] 반도체 제조공정에 필수 공정 "세정" 공정

이번 포스팅에서는 세정공정을 다루어보도록 하겠습니다. 반도체 제조공정에서 모든 공정 단계마다 세정 공정이 빠지지 않을 정도로 세정공정은 정말 중요합니다. 세정 공정에 대해서 한 번 알

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Chap 2. 세정공정 기초 - 용어 정리

  • Q1. Deionized Water 역할은 무엇이죠.
  • Q2. Supercritical Fluid, 초임계 유체에 대해서 알고 있나요.
  • Q3. 세정 공정상 Water Mark가 발생하는 원인에 대해서 알고 있나요.
  • Q4. QDR 에 대해서 설명해주세요.
  • Q5. 친수성(Hydrophilic), 소수성 (Hydrophobic), 초소수성에 대해서 구분해주세요.
 

[세정 공정] 훈련 1 : 세정 공정 - Cleaning 관련 용어

Cleaning 공정 요청이 생각보다 많아서 세정 공정에 대해서 다루어 보려고 합니다. 아무래도 세정공정은 화학 기반이다 보니 많이 어려웠습니다. 제가 물리 전공이다 보니 표현이 서툴 수 있다는

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Chap 3. 세정공정 기초 - Basic Knowledge

  • Q1. Cleaning 공정에 대해서 설명하세요.
  • Q2. Cleaning 공정의 목적에 대해서 설명해주시죠.
  • Q3. Cleaning 공정의 기술적 요구사항에 대해서 설명해주세요.
  • Q4. 반도체 공정상 주요 오염원에 대해서 설명하세요.
  • Q5. 말씀하신 오염들이 공정 상에 및리 수 있는 영향은 무엇일까요?
 

[세정 공정] 훈련 2 : Cleaning 공정의 개요 - "세정공정의 중요성"

Cleaning 공정은 반도체 FAB 공정에서 30~40%를 차지할 정도로 그 비중과 중요도가 높습니다. [질문 1] Cleaning 공정에 대해서 설명하세요. Cleaning 공정은 반도체 제조 프로세스에서 Si Wafer 표면의 불순

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Chap 4. 습식 세정

  • Q1. 습식세정의 공정 Flow를 간략하게 설명해주세요.
  • Q2. RCA 세정의 공정 구성을 설명해주실 수 있나요.
  • Q3. Wet Cleaning의 장점과 단점을 설명해주시겠습니까
 

[세정 공정] 훈련 3 : Wet Cleaning , 습식세정에 대해서 설명하세요.

오늘은 습식 세정에 대해서 알아보도록 하겠습니다. 교육생 여러분들이 에칭과 세정에 대해서 혼돈하는 경우가 많으신데요. 습식세정과 습식식각이 기본적인 컨셉은 동일하다고 볼 수 있습니

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Chap 5. CMP 공정 기초

  • Q1. CMP 공정이 미세 공정에서 점점 더 중요해지는 이유에 대해서 설명해주세요.
  • Q2. Defocus 이슈가 무엇인지 설명해주세요.
  • Q3. 말씀하신 Defocus 이슈를 개선하기 위한 Solution은 무엇인가요.
  • Q4. CMP 설비 구성에 대해서 아는대로 설명해주세요.
  • Q5. Conditioner의 역할은 무엇인가요?
  • Q6. CMP 공정에서 Cleaning Module은 왜 필요한지 설명해주세요.
  • Q7. Hard Pad와 Soft Pad 간 차이에 대해서 알고 있나요.
  • Q8. Pad가 CMP 성능에 매우 중요하게 작용합니다. 혹시 CMP 공정에서 또 다른 중요한 요구사항에 대해서 알고 있는 것이 있을까요.
  • Q9. CMP 공정의 Polishing Mechanism에 대해서 설명해주세요.
  • Q10. Slurry의 기능에 대해서 설명해주세요.
  • Q11. Slurry의 구성 성분에 대해서 알고 있나요.
  • Q12. Silicon 공정에서 CMP 공정이 적용되는 단계에 대해서 설명 부탁드립니다.
  • Q13. Planarization의 목적과 적용 방식에 대해서 구체적으로 설명해주세요.
  • Q14. Isolation CMP 방식의 목적에 대해서 설명해주세요.
  • Q15. Buffing의 목적에 대해서 설명해주세요.
 

[딴딴's 비밀노트] C&C (Cleaning & CMP) 공정의 모든 것, 한눈에 이해하는 CMP 공정

여러분들, 면접을 앞두고 시간이 없으신가요?속성 시리즈로 포스팅을 시작하려고 합니다! 금일은 미세화에 따라 점점 더 중요해진 CMP 공정에 대해서 다루도록 하겠습니다.질문 0. Chemical Mechanical

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  • Q16. Thermal Reflow 평탄화 기법에 대해서 설명해주세요.
  • Q17. Etch Back 방식은 알고 있나요.
  • Q18. CMP 공정의 중요성에 대해서 Photo 공정 관점에서 설명해주세요.
  • Q19. CMP 공정의 중요성에 대해서 Etch 공정 관점에서 설명해주세요.
  • Q20. CMP 공정의 Challenge인 Dishing과 Erosion 현상에 대해서 설명해주세요.
  • Q21. CMP 공정의 Target 막질에 따른 연마 방식을 알고 있나요.
 

[평탄화 공정] Chemical Mechanical Polishing, CMP 공정

여러분들 오늘은 CMP 공정에 대해서 간략하게 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1]. CMP 공정에 대해서 설명하세요. CMP 공정은 반도체 Chip 제작 과정에서 특정 단차로 인해 발생하는 불량이슈를 개

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