Atomic layer deposition 검색 결과

2 개의 검색 결과가 있습니다.

반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정

[증착공정] 훈련 9 : "미세공정에 따른 ALD 추가 직무면접"

미세화 트랜드에 따라 ALD의 비중은 점점 더 중요해지고 있습니다. ALD와 관련된 예상질문들을 정리해보았습니다. [질문 1]. 가볍게 'ALD'에 대해서 설명해주세요. ALD는 Atomic Layer Deposition으로 원자층 증착법입니다. 보통 많이 알려진 Chemical Vapor Deposition, CVD는 화학적 반응을 수반하여 막질을 형성하는데, ALD는 한층씩 원자수준의 1옹스트롱 내외로 박막을 증착합니다. CVD는 공정온도와 반응 gas의 부분합에 따라서 depo. rate을 조절할 수 있습니다. ALD 대비 100배 크게는 1,000배 빠르게 성장시킬 수 있어 Throughput이 높습니다. ALD는 CVD 대비 throughput은 낮지만 한 층씩 쌓기 때문에 우수한 step co..

2022. 2. 14. 17:59

반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정

[증착공정] 훈련 8 : "Atomic Layer Deposition, ALD에 대해서 설명하세요"

드디어, Atomic Layer Deposition, ALD 까지 왔습니다. ALD 장비를 이해하면 왜 ALD 장비가 EUV와 함께 미세화 트랜드에 반드시 필요한 공정인지 알 수 있을 것입니다. [질문 1]. Atomic Layer Deposition, ALD 에 대해서 설명해주세요. ALD는 Atomic Layer Deposition으로 CVD 방식의 advanced 형태로 reaction time으로 depo. rate을 조절하는 CVD와 달리 cycle로 depo. rate을 조절합니다. ALD는 반응가스를 동시에 주입하는 CVD와 달리 반응소스를 독립적으로 주입함으로써 완벽한 표면반응제어 방식의 deposition이 가능합니다. 막질 내의 불순물을 최소화 할 수 있으며, 거의 ~100%의 우수한 ..

2022. 2. 14. 00:09