반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정
[증착공정] 훈련 10 : "PVD 공정에 대해서 설명하세요"
이번 교육에서는 PVD에 대해 다루어보도록 하겠습니다. 특히 Sputter의 경우 plasma가 활용되기 때문에 plasma에 대해서 심도있게 다루어보도록 하겠습니다. [질문 1]. PVD 공정에 대해서 설명해주세요. PVD는 Physical Vapor Deposition으로 화학적 반응을 수반하는 CVD와 달리 타겟 원자의 운동에너지만으로 막질을 형성합니다. 운동에너지를 갖는 타겟 원자와 충돌하여 산란이 일어날 수 있으므로 고진공 상태에서 공정이 진행됩니다. 화학적 반응을 수반하지 않기 때문에 clean하며, 독성 반응 가스가 필요하지 않아 안전하고 박막간 adhesion이 비교적 높은 장점이 있습니다. 하지만 저압에서 공정하다 보니, Mean free path, MFP가 길고, 직진성을 가지고 있기 ..
2022. 2. 15. 23:40
최근댓글