반도체 검색 결과

192 개의 검색 결과가 있습니다.

반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정

[포토공정] 훈련 2 : "포토마스크에 대해서 설명하세요"

[질문 1]. 레티클에 대해서 설명하세요. Keyword : [마스크, 펠리클, DUV, ArF, I-line, EUV, 브래그반사경] 레티클은 노광공정에서 설계 도면을 포함하고 있는 포토마스크를 말합니다. 마스크의 세부구조는 펠리클 (얇은 고분자 기능성 막)과 액정보호필름, 쿼츠 유리판 그리고 전체적으로 패턴부분에 크롬을 코팅함으로써 입사된 빛을 차단하고 원하는 이미지 패턴만 투과되도록 설계됩니다. I-line (365nm), KrF (248nm), ArF (193nm)를 포함하는 DUV에서는 투과형 마스크를 사용하고, EUV (13.4nm)는 단파장이기 때문에 대부분의 에너지가 마스크에서 흡수 되는 이슈가 발생하기 때문에 반사형 마스크가 채택되었습니다. : [꼬리 1-1]. EUV에서 반사형 마스크에..

2022. 1. 6. 22:46

반도체사관학교 훈련과정/반도체 전공정

[포토공정] 훈련 1 : "포토공정에 대해서 설명하세요"

[질문 1]. Photo Lithography 공정에 대해서 설명하세요.Keyword : [반도체 회로, 규격화된 빛, 이미지 패턴, 전사, 미세화, Photoresist, 후속공정의 barrier]포토 공정은 설계한 반도체 회로 정보를 포함한 마스크에 규격화된 빛을 이용하여 웨이퍼 위에 이미지 패턴을 전사시키는 공정입니다. 웨이퍼에 감광물질인 Photoresist (PR)을 도포한 후, 마스크 패턴을 정렬하고 UV 등의 빛을 노광시켜 회로 패턴을 얻습니다. 형성된 감광막 패턴은 후속공정인 식각 혹은 이온 주입 시 Barrier 역할을 수행합니다. [질문 2]. 포토공정의 Process에 대해서 설명해주세요.Keyword : [Wafer 로딩, HMDS, 스핀코팅, Alignment, 노광, PR, So..

2022. 1. 3. 22:12

21년 하반기 전쟁에서 패배하면서..

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2022. 1. 3. 21:08